事半功倍 - 更準確快速的IV-CV測量方法

半導體組件和電子器件都需要IV與CV測量，以提取制造過程的關鍵信息或驗證器件性能。傳統上，IV 測量使用SMU，CV測量使用LCR表、電容測量單元(CMU)或阻抗分析儀。測試系統必須用一個整合開關對待測物(DUT) 的CV和IV兩種測量結合起來，然而這將使測量精度降低并增加測試時間。

在本次線上研討會中，您將有機會了解NI最先進的LCR儀器，可以將IV和CV測試集成在一起，同時執行f-F/f-A類測量， 并了解如何將它應用在優化實驗室空間，同時提高MEMS、超聲波傳感器、晶圓參數和iPD CV/IV測量精度。隨著設備復雜性的持續快速上升和上市時程的縮短，參加本次研討會探索通過嶄新的儀表架構，優化半導體參數測試，并節省成本。