研討會介紹
半導體組件和電子器件都需要IV與CV測量，以提取制造過程的關鍵信息或驗證器件性能。傳統上，IV 測量使用SMU，CV測量使用LCR表、電容測量單元(CMU)或阻抗分析儀。測試系統必須用一個整合開關對待測物(DUT) 的CV和IV兩種測量結合起來，然而這將使測量精度降低并增加測試時間。
在本次線上研討會中，您將有機會了解NI最先進的LCR儀器，可以將IV和CV測試集成在一起，同時執行f-F/f-A類測量， 并了解如何將它應用在優化實驗室空間，同時提高MEMS、超聲波傳感器、晶圓參數和iPD CV/IV測量精度。隨著設備復雜性的持續快速上升和上市時程的縮短，參加本次研討會探索通過嶄新的儀表架構優化半導體參數測試并節省成本。
演講嘉賓
公司介紹
NI公司于1976年5月在美國德克薩斯州成立，總部設于美國得克薩斯州的奧斯汀市，為納斯達克上市公司（NASDAQ: NATI），在全球有50多個國家設有辦事處，為全球超過35,000家公司提供服務，NI在全球擁有約7000名員工。
40多年來，NI開發了眾多自動化測試和自動化測量系統，助力工程師解決全球最嚴峻的難題。
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